삼성 이어 “SK도 털렸다”… 국가 미래 담긴 ‘핵심 자산’, 또다시 ‘이곳’에게 빼앗겼다

핵심 기술이 또 중국으로
연이어 드러난 내부자의 배신

삼성에 이어 이번엔 SK하이닉스까지 핵심 반도체 기술이 해외로 새어나갔다.

국가 경쟁력을 좌우할 수 있는 수조 원 규모의 기술이 내부자에 의해 중국으로 흘러들어간 사실이 드러나면서, 산업 보안에 구멍이 뚫린 한국의 현실이 또다시 적나라하게 드러났다.

SK하이닉스, ‘11,000장’ 기술 사진 유출

검찰은 7일, SK하이닉스 중국법인에서 근무하던 김 모 씨(51)를 산업기술 유출 혐의로 구속 기소했다고 밝혔다.

김씨는 2022년, 차세대 이미지 센서(CIS) 기술과 관련된 첨단 기술 자료를 무단 반출한 혐의를 받고 있다.

특히 해당 기술에는 인공지능(AI) 개발에 쓰이는 고대역폭메모리(HBM)와 관련된 ‘하이브리드 본딩’ 자료까지 포함돼 있었던 것으로 알려졌다.

그는 SK하이닉스 사내 보안 시스템을 무력화한 뒤, 자료를 직접 출력하거나 사진을 찍는 방식으로 기술을 유출했다.

검찰 조사에 따르면 김 씨가 찍은 사진만 1만 1000장을 넘겼으며, 자료의 대외비 문구와 회사 로고를 일부러 지우는 수법까지 동원한 것으로 드러났다.

이직 제안을 보낸 회사는 다름 아닌 중국 최대 통신장비 기업 화웨이의 자회사 하이실리콘이었으며, 김 씨는 이력서 작성에도 유출한 기술 정보를 활용한 것으로 확인됐다.

삼성전자도… “♡♡♡♡” 암호로 공범 도피

이보다 앞선 2일에는 삼성전자의 D램 반도체 공정 정보를 빼돌린 전직 연구원 전모 씨(55)가 구속기소됐다.

전씨는 CXMT(창신메모리테크놀로지)로 이직하며 국가핵심기술인 18나노 D램 공정 정보를 중국에 넘긴 혐의를 받고 있다.

이 기술은 삼성전자가 약 1조 6000억 원을 들여 개발한 것으로, 전씨는 CXMT로부터 계약금과 스톡옵션 등 약 29억 원을 받은 것으로 밝혀졌다.

그는 삼성전자 전 부장 김모 씨와 함께 기술 탈취를 공모했고, 내부 인력까지 영입하려는 계획을 세웠다.

이들은 수사에 대비해 단체 채팅방에 “♡♡♡♡”라는 암호를 남기기로 사전 약속을 하는가 하면, 허위 이직 회사를 꾸며 위장 근무까지 감행했다.

김씨는 이미 지난해 징역 7년, 벌금 2억 원을 선고받았으며, 이 사건으로 삼성전자와 협력사가 입은 피해는 수십조 원에 달할 것으로 추산된다.

반복되는 기술 유출… 국가 대응 충분한가

국내 반도체 산업을 지탱하는 두 축이 나란히 기술 유출 피해를 입은 이번 사건은 단순한 기업 손실을 넘어, 국가 경쟁력 자체가 흔들리는 사안이다.

검찰은 “기업과 국가 경제를 위협하는 기술 유출 범죄에 대해 단호히 대응할 것”이라고 밝혔지만, 이미 빼돌려진 기술은 다시 회수할 수 없다.

특히 반도체처럼 한 번 유출되면 복구가 불가능한 산업 분야에서는 사후 대응보다 철저한 예방이 무엇보다 중요하다.

그럼에도 불구하고, 기업 내 보안 시스템이 내부자의 손에 무너졌다는 사실은 기술보호 체계가 여전히 미흡하다는 반증이기도 하다.

해외에서는 정부 차원에서 기술 유출 방지를 위해 정보기관과 산업부문이 긴밀히 협력하고 있지만, 한국은 여전히 ‘사건 발생 후 대응’에 머무르고 있다는 지적이 끊이지 않는다.

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